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真空电镀工艺流程

真空电镀工艺流程

真空电镀工艺流程具体如下:工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤、轰击>预熔>溅射沉积>冷却>取件>后处理>成品。

VacuumMetalizing,即是物理气相沉积(PVD),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。

最早运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

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