是半导体制程里面离子注入（扩散）工艺的术语，指离子注入（参杂）浓度快响。，即在形成器件的硅衬底有源区参杂电子（5价于肥变吸误布放另乐经联离子）或者空穴（3价离子），以达成电性要求。
半导体行业里doping concentration是什么意思
jacky
2023-10-18 15:31
阅读 447
jacky
2023-10-18 15:31
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